35#鋼管生產中采用氣相沉積技術的操作方法及目的

氣相沉積技術[1] 是利用氣相中發(fā)生的物理、化學過程，在35#鋼管表面形成功能性或裝飾性的金屬非金屬或化合物涂層。氣相沉積技術按照成膜機理，可分為化學氣相沉積、物理氣相沉積和等離子體氣相沉積。
 

化學氣相淀積[CVD(Chemical Vapor Deposition)]，指把含有構成薄膜元素的氣態(tài)反應劑或液態(tài)反應劑的蒸氣及反應所需其它氣體引入反應室，在襯底表面發(fā)生化學反應生成薄膜的過程。在超大規(guī)模集成電路中很多薄膜都是采用CVD方法制備。
CVD特點：淀積溫度低，薄膜成份易控，膜厚與淀積時間成正比，均勻性，重復性好，臺階覆蓋性優(yōu)良。

化學氣相沉積（CVD）
將工件置于反應室中，抽真空并加熱至900~1100℃。如要涂覆TiC層，則將鈦以揮發(fā)性氯化物（如TiCl4)與氣體碳氫化合物（如CH4）一起通入反應室內，這時就會在工表面發(fā)生化學反應生成TiC，并沉積在工件表面形成6~8μm厚的覆蓋層。工件經氣相沉積鍍覆后，再進行淬火，回火處理，表面硬度可達到2000~4000HV

物理氣相沉積（PVD）
物理氣相沉積是通過蒸發(fā)，電離或濺射等過程，產生金屬粒子并與反應氣體反應形成化合物沉積在35#鋼管表面。物理氣象沉積方法有真空鍍，真空濺射和離子鍍三種，目前應用較廣的是離子鍍。
離子鍍是借助于惰性氣體輝光放電，使鍍料（如金屬鈦）氣化蒸發(fā)離子化，離子經電場加速，以較高能量轟擊工件表面，此時如通入CO2，N2等反應氣體，便可在工件表面獲得TiC,TiN覆蓋層，硬度高達2000HV。離子鍍的重要特點是沉積溫度只有500℃左右，且覆蓋層附著力強，適用于高速鋼工具，熱鍛模等。

文章來源：http://flia.cn/